一种基片支撑结构及沉积设备、沉积方法.pdfVIP

  • 0
  • 0
  • 约8.7千字
  • 约 7页
  • 2023-07-01 发布于四川
  • 举报

一种基片支撑结构及沉积设备、沉积方法.pdf

本发明提供基片支撑结构以及具有该基片支撑结构的沉积设备,对用于静电吸附的凸点布局设计,将三个杆孔以基座圆心为中心呈等边三角形排布,同时基座的圆心处设置一凸点,不在同一直线上的三个相邻凸点呈等边三角形排布,且两个相邻的凸点的连线与三个杆孔构成的等边三角形的一边平行,各相邻两凸点之间的间距相等,该布局下凸点呈三点支撑,使得基片局部变形小,同时在该整体布局下,吸附力更为均匀,可以克服高温过程中由于局部温差而导致的基片局部塌陷问题,提升基片加工良率。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116356291 A (43)申请公布日 2023.06.30 (21)申请号 202310482908.X (22)申请日 2023.04.27 (71)申请人 江苏微导纳米科技股份有限公司 地址

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档