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本发明提供一种绝缘膜形成装置用托盘，前述绝缘膜形成装置用托盘能够抑制绝缘膜向半导体晶圆外周部的形成，且在半导体晶圆背面上形成绝缘膜。本发明是在半导体晶圆的背面形成绝缘膜的绝缘膜形成装置处载置半导体晶圆的托盘(1)，其特征在于，具备载置半导体晶圆的托盘主体(11)，托盘主体(11)具有凹部(11c)和环状槽(11d)，前述凹部(11c)设置于托盘主体(11)的上表面(11a)，容纳半导体晶圆，前述凹部(11c)是圆柱状的，前述环状槽(11d)设置于凹部(11c)，内径比半导体晶圆的直径小，且外径比
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116364640 A
(43)申请公布日 2023.06.30
(21)申请号 202211508009.4
(22)申请日 2022.11.29
(30)优先权数据
2021-212944 202
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