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- 2023-07-01 发布于四川
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本发明涉及薄膜加工技术领域，提供了一种磁控溅射双面镀膜装置及方法，该磁控溅射双面镀膜装置，包括放卷室、前处理室、溅射室以及收卷室；溅射室包括溅射导向辊、阴极靶、第一镀膜辊以及第二镀膜辊；第一镀膜辊与第二镀膜辊的外侧周向方向上均设置有若干阴极靶；溅射导向辊沿基材的输送方向设置在溅射室内，适于引导基材先通过第一镀膜辊以完成正面镀膜、以及后通过第二镀膜辊以完成反面镀膜。本发明提供的磁控溅射双面镀膜装置，相比于现有技术而言，无需对完成镀膜后的基材进行二次装卸，避免对镀好的薄膜造成损坏，有利于提高产品的质
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116356272 A
(43)申请公布日 2023.06.30
(21)申请号 202310333795.7
(22)申请日 2023.03.30
(71)申请人 洪田科技有限公司
地址 2241
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