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- 2023-07-02 发布于四川
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本公开涉及一种半导体结构(100),包括结晶硅基底(110),具有表面(111),以及在该硅基底(110)的该表面(111)上的结晶氧化硅超结构(120),该氧化硅超结构(120)具有至少两个分子层的厚度和采用伍德表示法的(1x1)平面结构。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113748490 A
(43)申请公布日 2021.12.03
(21)申请号 202080031175.2 马尔科 ·蓬基宁 安蒂 ·拉赫蒂
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