原创力文档- 12
- 0
- 约1.01万字
- 约 8页
- 2023-07-02 发布于四川
- 举报
本发明提出了一种晶圆表面吸收式IR镀膜工艺，通过本工艺得到的产品使得可见光区（400nm~700nm）呈高透，近红外区（780nm~1100nm）呈高度截止状态，在不同角度光入射时光透过偏移量小，有助于改进角度偏移难题，解决了传统镀膜制程产品容易出现的图像失真、识别速度慢等问题，比起传统镀膜工艺只能保证光在0°‑20°入射时光干扰小的窄角来讲，本工艺路线具有更优越的实用价值；晶圆表面经过电路及光路层结构加工后表面存在高度差，对旋涂要求较高，本发明工艺可较好的去除凹槽中的油墨残留，且光路层表面油墨
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113737131 A
(43)申请公布日 2021.12.03
(21)申请号 202111053917.4 G03F 7/16 (2006.01)
文档评论（0）