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公开了曝光装置、曝光方法和物品制造方法。一种被配置为将基板曝光于来自固态发光元件的光的曝光装置包括：照明光学系统，被配置为用光照明掩模；以及投影光学系统，被配置为将掩模的图案的图像投影到基板上，其中，作为被包含在照明光学系统中的并与固态发光元件的发光面光学共轭的光瞳面上的光强度分布的光瞳面强度分布是在照明光学系统的光轴之外实现最大强度的光强度分布，并且其中，光瞳面强度分布是发光面的发光分布被以预定倍率投影的光瞳面上的光强度分布。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113759666 A
(43)申请公布日 2021.12.07
(21)申请号 202110598161.5
(22)申请日 2021.05.31
(30)优先权数据
2020-0977
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