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本发明属于膜的表面处理技术领域，具体涉及一种抗蚀剂剥离液组合物，用于在半导体元件、液晶面板元件等的制造中的膜的表面处理。本发明抗蚀剂剥离液组合物包括：(A)抗蚀剂剥离溶液，选自碳酸亚乙酯，碳酸亚丙酯，γ‑丁内酯，环戊酮和碳酸甘油酯中的一种或多种；(B)在分子中具有氧化烯基的表面活性剂；(C)在分子中具有乙氧基，丁氧基或这两个取代基两者的基于乙二醇醚的有机化合物。本发明提供在充分利用含有氧化烯系表面活性剂的抗蚀剂剥离液的特性的同时，溶解了作为氧化烯系表面活性剂的分解产物的1‑十六烷醇等水不溶性微粒
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113777895 A
(43)申请公布日 2021.12.10
(21)申请号 202111094151.4
(22)申请日 2021.09.17
(71)申请人 宏伟建设工程股份有限公司
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