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- 2023-07-05 发布于四川
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本发明涉及LED芯片技术领域,具体涉及一种降低LED芯片驱动电压的GaN基外延层生长方法。该生长方法,先在衬底上生长N型GaN层,再通入50000~75000sccm的NH3、5000~20000sccm的H2和50000~80000sccm的N2、200~300的SiH4和1000~2000sccm的TEGa,在N型GaN层上生长应力释放层,在应力释放层上生长多量子阱有源区层,然后通入45000~60000sccm的NH3和1000~2000sccm的TEGa和2000~4000sccm的CP
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116387414 A
(43)申请公布日 2023.07.04
(21)申请号 202310248617.4
(22)申请日 2023.03.15
(71)申请人 福建兆元光电有限公司
地
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