化学机械抛光液及其抛光方法.pdfVIP

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  • 2023-07-05 发布于四川
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本发明实施例公开了一种化学机械抛光液及其抛光方法,所述二氧化硅颗粒,20‑50wt%;碱性腐蚀剂,1‑10wt%;芬顿试剂,1‑10wt%;络合剂,0.1‑1wt%;分散剂,0.01‑1wt%;所述芬顿试剂包括硫酸亚铁与双氧水。本发明优化了抛光液配方和组成,抛光液中添加了芬顿试剂,利用芬顿试剂的氧化性提升抛光液的去除效率;抛光液中添加螯合剂与芬顿试剂中亚铁离子在碱性条件下生成螯合物避免了芬顿试剂的失效;本发明在抛光过程对抛光液超声处理,一方面将亚铁离子缓慢释放出来与双氧水组成芬顿试剂,另一方面产

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115433522 A (43)申请公布日 2022.12.06 (21)申请号 202211171861.7 (22)申请日 2022.09.26 (71)申请人 深圳清华大学研究院 地址 5180

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