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本发明公开一种等离子体处理装置及其约束环组件与方法，反应腔内设置用于支撑基片的下电极组件，射频功率源将射频功率施加至下电极组件，反应腔还包括：等离子体约束环组件，环绕设置于下电极组件外围，包括等离子体约束环和接地环；接地环在等离子体约束环下方，接地环包含内环和外环，内环电接地，内环通过中间件与外环连接，内环与等离子体约束环内侧之间存在第一电容，外环与等离子体约束环外侧之间存在第二电容，第一电容大于第二电容，使得射频电流经由第一电容进入接地环的内环。本发明改变射频回路局部路径，解决等离子体约束环与
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113808900 A
(43)申请公布日
2021.12.17
(21)申请号 20201
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