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基片处理装置、基片处理的推断方法和存储介质.pdfVIP

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  • 2023-07-05 发布于四川
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基片处理装置、基片处理的推断方法和存储介质.pdf

    本发明提供一种能够使形成在基片上的覆膜的去除宽度的调节变得快速的基片处理装置、基片处理的推断方法和存储介质。基片处理装置包括：周缘去除部，其去除形成在基片的表面上的覆膜的周缘部分；分布获取部，其获取表示基片的周向上的位置与基片中被去除了覆膜的部分的宽度的关系的去除宽度分布；和原因推断部，其基于去除宽度分布，输出表示宽度的误差的原因的原因信息。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113808970 A (43)申请公布日 2021.12.17 (21)申请号 202110636866.1 (22)申请日 2021.06.08 (30)优先权数据 2020-1029

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