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本发明公开了一种薄膜晶体管的制作方法、薄膜晶体管及电子设备,其中薄膜晶体管的制作方法,包括,提供一衬底基板,在衬底基板上形成栅极层;在栅极层上采用化学气相沉积工艺形成栅极绝缘层;在栅极绝缘层上采用磁控溅射法形成有源层,有源层采用铟镓锌氧化物制成;在有源层上形成源极层和漏极层;在源极层和漏极层上形成钝化层;在钝化层上形成像素电极层;在像素电极层上形成反射层。本发明薄膜晶体管的有源层采用铟镓锌氧化物制成,由于金属的NS轨道呈球形状分布各向同性,交叠部分较大,所以铟镓锌氧化物具有良好的载流子传输通道,
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113838759 A
(43)申请公布日 2021.12.24
(21)申请号 202110864443.5
(22)申请日 2021.07.29
(71)申请人 信利
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