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本发明公开了一种基板刻蚀沟槽装置，属于功率半导体技术领域,包括料篮上料机构1、载盘抓取机构2、激光刻蚀机构3及载盘定位传送机构4，采用专用的料篮，一次可完成多块基板的上料，生产过程中无需人工上下料，提高了生产效率。载板通过专用的定位机构固定，可保证载盘在激光刻蚀的过程中的位置不发生偏移。载盘内可承载多块基板，一次可完成多块基板的图形刻蚀。基板的位置通过定位相机检测，定位精度高，保证图形刻蚀精确。传送机构可调节宽度，可适应不同尺寸的载盘，从而兼容不同尺寸的基板。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113828934 A
(43)申请公布日 2021.12.24
(21)申请号 202111044908.9
(22)申请日 2021.09.07
(71)申请人 常州科瑞尔科技有限公司
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