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- 2023-07-06 发布于四川
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本发明涉及异质结技术领域,具体而言,涉及一种超导‑半导体纳米线异质结,包括衬底,以及生长在所述衬底上的半导体纳米线和超导体层,所述超导体层至少一部分与所述半导体纳米线直接接触;其中,所述半导体纳米线的材料为化合物半导体PbTe,所述超导体层的材料为元素超导体Pb,所述衬底的材料为化合物半导体CdTe。本发明还涉及所述超导‑半导体纳米线异质结的制备方法。本发明进一步涉及一种包含所述超导‑半导体纳米线异质结的器件。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113838964 A
(43)申请公布日 2021.12.24
(21)申请号 202111080289.9 H01L 39/24 (2006.01)
(22)申请日 2
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