原创力文档- 1、本文档共6页，其中可免费阅读5页，需付费10金币后方可阅读剩余内容。
- 2、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。
- 3、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
- 4、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
本发明提供了一种聚变装置中原位制备钨膜的方法，包括：将聚变装置内部的腔室加热至预设温度，并向所述腔室中通入预设比例的氢气和钨源；设定射频电源的功率和直流电源的电流，利用射频辉光放电和直流辉光放电产生的等离子体提供能量，使氢气和六氟化钨发生化学反应生成钨，即可在所述聚变装置腔室内壁表面原位沉积钨膜。本发明利用射频与直流结合的等离子体辅助化学气相沉积镀膜法在聚变装置内部镀钨，实现了低温原位的整体钨膜制备，简化了操作步骤，且本方法制备的钨膜能够一次性完全覆盖腔室内部，获得的钨膜更加均匀、完整。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113818001 A
(43)申请公布日 2021.12.21
(21)申请号 202010565322.6
(22)申请日 2020.06.19
(71)申请人 新奥科技发展有限公司
文档评论（0）