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气体喷嘴、基板处理装置以及基板处理方法.pdfVIP

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  • 2023-07-06 发布于四川
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气体喷嘴、基板处理装置以及基板处理方法.pdf

    本发明涉及气体喷嘴、基板处理装置以及基板处理方法。本发明提供一种能够抑制气体喷嘴顶端的气体滞留的技术。本公开的一个方式的气体喷嘴是沿着大致圆筒形状的处理容器的内壁内侧在铅垂方向上延伸的气体喷嘴，所述气体喷嘴具有：多个第1气体孔，其沿着长度方向空出间隔地设置；以及第2气体孔，其设于顶端，在从长度方向俯视观察时取向为与设有所述多个第1气体孔的一侧相反的一侧，开口面积比所述多个第1气体孔的各自的开口面积大。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113818008 A (43)申请公布日 2021.12.21 (21)申请号 202110652056.5 (22)申请日 2021.06.11 (30)优先权数据 2020-1064

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