从陶瓷靶沉积的立方富铝AlTiN涂层.pdfVIP

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  • 2023-07-07 发布于四川
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本发明披露了一种用于生产富铝AlxTi1‑xN基薄膜的非反应性PVD涂覆工艺,该薄膜具有基于薄膜中的铝钛总量的大于75原子%的铝含量,并且该薄膜具有立方晶体结构和柱状微观结构,其中,陶瓷靶被用作富铝AlxTi1‑xN基薄膜的材料源。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113874540 A (43)申请公布日 2021.12.31 (21)申请号 201980088086.9 丹尼斯 ·库拉波夫 佐佐木智也 

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