高电子迁移率晶体管及高压半导体装置.pdfVIP

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  • 2023-07-07 发布于四川
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高电子迁移率晶体管及高压半导体装置.pdf

一种高电子迁移率晶体管,包括基底、三五族沟道层、三五族阻挡层、三五族盖层、源极电极、第一漏极电极、第二漏极电极、以及连接部。其中,三五族沟道层、三五族阻挡层、及三五族盖层依序设置于基底上。源极电极设置于三五族盖层的一侧,第一漏极电极及第二漏极电极设置于三五族盖层的另一侧。第一漏极电极的底面分离于第二漏极电极的底面,且第一漏极电极的组成不同于第二漏极电极的组成。连接部电连接至第一漏极电极以及第二漏极电极。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113871476 A (43)申请公布日 2021.12.31 (21)申请号 202010623811.2 (22)申请日 2020.06.30 (71)申请人 世界先进积体电路股份有限公司

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