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基板处理装置及基板处理方法.pdfVIP

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  • 2023-07-07 发布于四川
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基板处理装置及基板处理方法.pdf

    第1护罩顶端部(86)的内周端(74a)在水平方向上隔着第1环状间隙(C1)而与基板(W)的周端面(Wc)相对。另外，第2护罩顶端部(88)的内周端(75a)在水平方向上隔着第2环状间隙(C2)而与圆板部(28)的外周端(28c)相对。基板相对面(26a)与基板(W)的表面(Wa)保持规定的间隔(WU)，同时遮蔽部件(6)与基板(W)相对。第1环状间隙(C1)的距离(L1)与第2环状间隙(C2)的距离(L2)的合计(L1+L2)为排气路径(EP)中的流路宽度(WF)以上，且为基板相对面(26a)

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113874992 A (43)申请公布日 2021.12.31 (21)申请号 202080038691.8 (74)专利代理机构 北京市金杜律师事务所

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