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光掩模坯、光掩模的制造方法和光掩模.pdfVIP

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  • 2023-07-07 发布于四川
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光掩模坯、光掩模的制造方法和光掩模.pdf

    本发明提供光掩模坯，其中，抗蚀剂膜相对于含有铬的膜的密合性高，在辅助光掩模的主要图案的分辨率的、线图案的辅助图案的形成中能够实现良好的分辨率极限、良好的CD线性度。光掩模坯(511)在基板上包括被加工膜(21)；从与基板分离的一侧起，包括第1层(311)、第2层(312)和第3层(313)，第1层(311)含有氧和氮，铬含有率为40原子％以下，氧含有率为50原子％以上，氮含有率为10原子％以下，厚度为6nm以下，第2层(312)含有氧、氮和碳，铬含有率为40原子％以下，氧含有率为30原子％以上，

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113874784 A (43)申请公布日 2021.12.31 (21)申请号 202080039879.4 (74)专利代理机构 中国贸促会专利商标事务所

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