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本发明提供了一种可耐长时间烘烤的高宽容性光刻胶，包括如下质量百分比的各组分：酸酐改性丙烯酸树脂20～30％；大分子光引发剂2～5％；颜料0.1～0.5％；石英粉20～30％；消光粉4～8％；有机溶剂18～25％；功能助剂5～10％；环氧树脂10～15％；三聚氰胺0.5～2.5％；所述大分子光引发剂为含二苯甲酮的POSS光引发剂。采用马来酸酐作为功能单体，在丙烯酸树脂分子链中引入酸酐，提高了固化效率以及光刻胶的性能，增加光刻胶的耐烘烤时间；采用含二苯甲酮的POSS作为大分子光引发剂，进一步增加了光
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116400564 A
(43)申请公布日 2023.07.07
(21)申请号 202310325870.5
(22)申请日 2023.03.30
(71)申请人 江苏海田电子材料有限公司
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