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一种单真空舱室晶圆质子辐照装置.pdfVIP

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  • 2023-07-08 发布于四川
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一种单真空舱室晶圆质子辐照装置.pdf

    本发明适用于电力电子器件生产制造领域，提供了一种单真空舱室晶圆质子辐照装置，实现了辐照过程的自动化。晶圆辐照过程始终是在真空状态下进行，减少了束流损失，确保了束流品质，有利于准确控制晶圆的辐照深度，进而实现芯片局域载流子寿命的准确控制；单真空舱晶圆质子辐照装置整体结构为钢制圆筒结构，晶圆辐照过程中，束流始终处于圆筒内，钢制圆筒可以有效屏蔽残余辐射剂量，有利于减少生产人员受到的辐射伤害，特别适合较低能量的晶圆质子辐照；辐照舱内的二维移动平台，具备X/Y双方向匀速移动功能，可以实现晶圆的均匀辐照，提

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116403951 A (43)申请公布日 2023.07.07 (21)申请号 202111620942.6 G21F 1/08 (2006.01)

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