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激光器及其制备方法.pdfVIP

激光器及其制备方法.pdf

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    本申请涉及一种激光器及其制备方法，激光器包括依次层叠的衬底、第一反射层、第一晶格过渡层、发光有源层和第二反射层，其中，第一晶格过渡层的晶格常数大于第一反射层的晶格常数，且小于发光有源层的晶格常数，如此使得第一晶格过渡层分别与第一反射层和发光有源层晶格匹配，从而可从根本上解决第一反射层和发光有源层之间因晶格失配导致无法制备出高性能的激光器的问题。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113872047 A (43)申请公布日 2021.12.31 (21)申请号 202110988074.0 (22)申请日 2021.08.26 (71)申请人 埃特曼（北京）半导体技术有限公司

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