1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 文档分类
  4. 行业资料
  5. 国内专利

一种等离子体设备主机及气相沉积系统.pdfVIP

  • 2
  • 0
  • 约1.88万字
  • 约 20页
  • 2023-07-13 发布于四川
  • 举报

一种等离子体设备主机及气相沉积系统.pdf

    本实用新型提供了一种等离子体设备主机及微波等离子体化学气相沉积系统，属于微波技术领域。上述等离子体设备主机包括机架、真空腔基座、腔盖及升降装置；真空腔基座与机架连接，真空腔基座的中部设置有样品基片台；腔盖能够与真空基座进行密封配合。升降装置的底部与机架连接，上部与腔盖连接，升降装置能够带动腔盖上下移动。使用时，通过操作升降装置起吊或下降，从而将腔盖打开或扣合在真空腔基座上。采用上述升降装置后，其不仅提高了工作效率，还降低了操作人员的劳动强度。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 214168123 U (45)授权公告日 2021.09.10 (21)申请号 202023340263.7 (22)申请日 2020.12.31 (73)专利权人 成都纽曼和瑞微波技术有限公司

    您可能关注的文档

    最近下载

    文档评论（0）

    1亿VIP精品文档

    更多 >

    相关文档

    更多 >