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本实用新型涉及激光切割技术领域,公开了包括基板和治具本体,基板端面中心设有镂空的切割区,切割区包括多个基材支撑单元,每个基材支撑单元均包括多个中空支撑柱体,多个中空支撑柱体呈环形阵列排布,其环形阵列的中心设有中心柱,中空支撑柱体和中心柱的中空部分均贯穿基板;切割区的四周还设有多个识别定位柱,解决了现有的用于切割带有多个环形图案阵列的大板玻璃的治具普遍存在着切割效率低,不便于进行下抽尘作业的缺陷。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 214185875 U
(45)授权公告日 2021.09.14
(21)申请号 202022485774.1
(22)申请日 2020.10.30
(73)专利权人 武汉正源高理光学有限公司
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