原创力文档- 1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
- 2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
- 3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
本发明提供一种耐候性强的多层增透膜及其制备工艺，包括基底及设置在基底上的多层膜，其特征在于，还包括设于基底上的高折射率和低折射率交替的膜层以及设于高/低折射率交替膜堆表面的疏水膜，所述高/低折射率交替膜堆远离基板方向表面为低折射率膜层。本发明通过磁控溅射方式沉积高/低折射率交替膜堆，提高了膜层结构的稳定性、提高了高折射率膜层与低折射率膜层的结合附着力；同时本发明通过选用纳米氧化硅辊涂形成疏水层，提高了光的透过率，适用的温度、湿度、气压等范围更广，能在多变的环境中保持性能稳定。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116430486 A
(43)申请公布日 2023.07.14
(21)申请号 202310209278.9 C23C 14/06 (2006.01)
文档评论（0）