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本申请提供一种清洁基站及清洁设备，涉及清洁设备技术领域。清洁基站包括驱动机构、底座和支架。底座上设有第一滑槽和第二滑槽，第二滑槽位于第一滑槽的上方，第二滑槽的一端与第一滑槽的一端连通，底座上设有弹性导向件，弹性导向件包括依次连接的固定部、弹性部和导向部，固定部与底座连接，导向部设置于第一滑槽和第二滑槽的另一端，导向部在弹性部的作用下能够使第一滑槽和第二滑槽的另一端连通；支架与驱动机构连接，支架设有滑动件和刮板，刮板位于支架靠近底座的一侧，滑动件在驱动机构的作用下能够在第一滑槽和第二滑槽之间往复移
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 219331547 U
(45)授权公告日 2023.07.14
(21)申请号 202320297081.0
(22)申请日 2023.02.18
(73)专利权人 浙江弥乐科技有限公司
地址 3
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