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本实用新型公开了一种用于功率放大器生产的芯片光刻装置,包括热烘机构、放置机构,所述热烘机构的上部设置有所述放置机构,还包括用于放置掩膜板的光刻机构,所述光刻机构包括液压杆、滑套、掩膜架、固定板、光刻灯、行星减速器、电机,所述液压杆的外部套有所述滑套,所述滑套之间通过所述掩膜架连接。本实用新型利用滑套之间的相对距离可以依据液压杆表面的刻度进行精确调节，使得能够依据光刻灯调节相对距离进行对焦，可快速进行光刻，且多个掩膜架的作用可同时放置多个不同形状的掩膜板来组成所需光刻形状。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 214202049 U
(45)授权公告日 2021.09.14
(21)申请号 202120038293.8
(22)申请日 2021.01.08
(73)专利权人 深圳市海纳鑫信息科技有限公司
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