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本实用新型公开了一种控制啁啾皮尔斯高斯涡旋光束聚焦深度和强度的系统，包括：分体式氦氖激光器，用于发射高斯光束；半波片和偏振分束立方，用于控制高斯光束的功率；扩束准直系统，用于使入射光束的光强均匀分布；非偏振分束立方，用于分束光束并产生干涉；液晶空间光调制器，其加载有特定的掩模板，用于对入射光束进行调制，变换入射光束波前；傅里叶透镜，用于对光束进行傅里叶变换调制；反射镜，用于改变光束的传输方向；可调光阑，用于选取像方焦平面上的正一级干涉条纹；CMOS摄像机，用于观察在传输距离范围内的光束；抛物势介
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 214201971 U
(45)授权公告日 2021.09.14
(21)申请号 202023324157.X
(22)申请日 2020.12.31
(73)专利权人 华
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