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一种基材抗菌制备工艺、抗菌基材及镀膜设备.pdfVIP

一种基材抗菌制备工艺、抗菌基材及镀膜设备.pdf

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    本申请涉及一种基材抗菌制备工艺、抗菌基材及镀膜设备，其中，制备工艺包括以下步骤：基材置于密闭腔室内的转动料架上，抽真空形成真空处理腔室；向密闭腔室内通入惰性气体，通电启动密闭腔室内的离子发生器，对基材进行等离子清洗；向密闭腔室内通入第一工作气体，给阴极硅靶通电，通过磁控溅射的方式在基材表面沉积氧化硅膜；驱使转动盘和转动料架转动，向密闭腔室持续通入第二工作气体，给阴极银靶通电，通过磁控溅射的方式在氧化硅膜背离基材的表面沉积纳米银离子膜；在纳米银离子膜背离氧化硅膜的一侧沉积全氟聚合物膜。本申请提升银

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115161597 A (43)申请公布日 2022.10.11 (21)申请号 202210881674.1 C23C 14/35 (2006.01)

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