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本发明提供了一种基于AFM的KDP晶体表层微纳缺陷检修装置、系统及方法，属于KDP晶体缺陷检修技术领域。为了解决现有KDP晶体在修复时主要采用微机械修复，但会在晶体表面残留修复痕迹，多次修复后会造成损伤；且检测精度有限，无法检测20μm以下缺陷的问题。包括双工位检测装置和AFM装置，利用双工位检测装置进行粗定位和精定位，二者的结合既能实现精准定位又能提高检测速度；利用AFM装置进行修复，相对于微机械修复来说，不会对KDP晶体表面造成机械损伤，可进行重复多次的修复，没有次数限制，能够有效延长其使用
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116429772 A
(43)申请公布日 2023.07.14
(21)申请号 202310603520.0
(22)申请日 2023.05.26
(71)申请人 哈尔滨工业大学
地址 15000
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