薄膜淀积工艺(上)课件.pptVIP

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2023-07-18 发布于四川
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薄膜淀积工艺(上)课件.ppt

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第五章薄膜淀积工艺（上）薄膜淀积（Thin Film Deposition）工艺■概述■真空技术与等离子体简介(第10章)■化学气相淀积工艺(第13章)■物理气相淀积工艺(第12章)■小结参考资料：《微电子制造科学原理与工程技术》第10、12、13章（电子讲稿中出现的图号是该书中的图号）一、概述1、薄膜淀积工艺的应用薄膜淀积工艺是IC制造中的重要组成部分：在硅表面以上的器件结构层绝大部分是由淀积工艺形成的。 2、薄膜淀积工艺一般可分为两类：(1) 化学气相淀积（Chemical Vapor Deposition）：利用化学反应生成所需薄膜材料，常用于各种介质材料和半导体材料的淀积，如二氧

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