一种抗光凌空全息成像装置.pdfVIP

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  • 2023-07-20 发布于四川
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本实用新型公开了一种抗光凌空全息成像装置,中央成像模块设置在框架中心,外围光线偏移模块包围中央成像模块且与框架连接;中央成像模块包括第一透明板,第一透明板的一侧设置有高光偏振膜,另一个设置有全息投影膜,高光偏振膜面向外围光线偏移模块的正面,全息投影膜面向外围光线偏移模块的背面;外围光线偏移模块为多个第二透明板,且位于正面和背面的第二透明板设置有减光材料。中央成像模块的外边缘通过框架隐藏,通过透明板的一侧设置有高光偏振膜,另一个设置有全息投影膜实现成像,通过在正面设置减光材料,降低成像空间亮度的同

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 214278644 U (45)授权公告日 2021.09.24 (21)申请号 202120154476.6 (22)申请日 2021.01.20 (73)专利权人 所明心 地址 10

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