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本实用新型提供一种硅片清洗设备，包括：壳体、承载单元、传输单元、清洗单元和吹扫单元；其中，所述承载单元、所述传输单元和所述清洗单元均容置于壳体内，且所述传输单元连接所述承载单元和所述清洗单元，以将硅片传递于所述承载单元与所述清洗单元之间；所述吹扫单元包括若干个风幕机，用于形成气幕；所述风幕机设置于壳体的内表面，且所述风幕机的出风口朝向传输单元，以使所述气幕吹扫至所述传输单元上的所述硅片的表面。可见，所述风幕机的设置不仅能够干燥清洗后的硅片，还能够将清洗后残留的碳吹离硅片的表面，避免硅片表面残留的
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 219370983 U
(45)授权公告日 2023.07.18
(21)申请号 202320552051.X F26B 21/14 (2006.01)
(22)申请日 2023.03.
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