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还原炉.pdfVIP

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  • 2023-07-21 发布于四川
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还原炉.pdf

    本实用新型涉及生产技术领域，尤其是涉及一种还原炉，包括对可见及红外光具有反射作用的光反射层和对可见及红外光具有透射作用的光透射层，所述光反射层包括靠近反应物料一侧的反射端面和另一侧的贴合端面，所述光透射层设置在所述反射端面上。能够避免光反射层在还原炉的间歇性运行中与空气中的氧气结合而在表面生成金属氧化膜，使得光反射层的反射性能急剧下降，无法长时间维持高的反射率的情况。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 214299304 U (45)授权公告日 2021.09.28 (21)申请号 202022494674.5 (22)申请日 2020.11.02 (73)专利权人 亚洲硅业(青海)股份有限公司

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