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一种有效实现金刚石中硅掺杂的设备与方法.pdf

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一种有效实现金刚石中硅掺杂的设备,采用MPCVD系统,包括气体控制模块、微波模块和包括反应腔室的反应沉积模块;所述的反应沉积模块,包括石英窗、反应腔室、样品台和样品托,微波通过石英窗进入反应腔室,样品托置于样品台上在反应腔中;所述的样品托呈圆柱体状,样品托周围有进气环用于气体从下方进入,带孔样品托中心有直径为2mm的通孔,用于从下方进气,样品托通孔周围有倾斜面,倾斜面与水平面具有0‑90°的不同夹角,改变衬底的角度,进行不同角度沉积生长;由腔室下方通过样品托通孔通入甲烷和氮气,温度在760‑78

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116463609 A (43)申请公布日 2023.07.21 (21)申请号 202310328517.2 C23C 16/455 (2006.01)

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