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本实用新型公开了一种晶圆生产用清洁装置,涉及电子元件加工技术领域。本实用新型包括容纳箱、输送带、顶盖和清洁机构,容纳箱内部的四角对称固定有支柱,支柱顶部的内侧转动连接有滚轴,两根滚轴之间包覆连接有输送带,通过滚轴的旋转使输送带运转输送,输送带上设置有清洁机构,清洁机构用于对晶圆的固定,以保证不会互相碰撞,容纳箱的上端固定有顶盖,顶盖覆盖于输送带上方,顶盖用于固定管道类的输水结构,同时防止水流四射。本实用新型通过清洁机构、顶盖、容纳箱,解决了晶圆清洁时缺少相应的辅助固定结构和晶圆清洁不彻底,水资源
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 214289613 U
(45)授权公告日 2021.09.28
(21)申请号 202022923088.8
(22)申请日 2020.12.09
(73)专利权人 江苏宿芯半导体有限公司
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