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                本发明属于光催化纳米材料制备和降解领域,具体涉及一种用于降解四环素的NiCoP/g‑C3N4复合光催化剂的制备方法。本发明采用简单的超声浸渍法将NiCoP(NCP)纳米颗粒耦合在不规则孔状g‑C3N4(CN)表面,形成NiCoP/g‑C3N4复合光催化剂用于降解四环素(TC)中。与NiCoP和g‑C3N4相比,NCP/CN在模拟阳光下的光催化降解TC效率显著提高。本工作为探索过渡金属磷化物(TMPs)和石墨相氮化碳(g‑C3N4)在光催化降解四环素中的应用提供了新的途径。
                    
   (19)国家知识产权局 
                                (12)发明专利申请 
                                                            (10)申请公布号 CN 116459850 A 
                                                            (43)申请公布日 2023.07.21 
   (21)申请号  202310352049.2                         B01J  37/03 (2006.01
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