一种基于SOI材料的超低电容TVS器件.pdfVIP

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  • 2023-07-24 发布于四川
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本实用新型提出一种基于SOI材料的超低电容TVS器件,该TVS器件包括:衬底层,该衬底层采用SOI硅片制作;N阱/P阱/N+/P+区域,该N阱/P阱/N+/P+区域形成于衬底层上,由N阱/P阱/N+/P+区域构成TVS管;N+/P+区域,该N+/P+区域形成于衬底层上,由N+/P+区域构成开关管;表面浅槽,该表面浅槽形成于N+/P+区域,并环绕于N+与P+之间,其结深浅于N+/P+区域的结深;浅槽填充层,该浅槽填充层采用氧化层形成于表面浅槽内;表面深槽,该表面深槽形成于衬底层上,并将N阱/P阱/

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 214313217 U (45)授权公告日 2021.09.28 (21)申请号 202120615226.8 (22)申请日 2021.03.26 (73)专利权人 傲威半导体无锡有限公司

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