一种八字环形腔的结构.pdfVIP

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  • 2023-07-26 发布于四川
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本实用新型涉及非线性光物理领域,提出了一种八字环形腔的结构,包括底座,底座上方设置有盖板,形成封闭壳体;底座上固定设置有反射镜架和五维位移台,五维位移台上设置有隔热座,隔热座内设置有凹槽,凹槽内设置有帕尔帖元件,凹槽上方设置有加热底板,加热底板上设置有晶体座,晶体座上设置有长槽,晶体设置在长槽上,并通过Z型的加热顶板固定,晶体座上还设置有用于放置热敏电阻的测温孔;加热顶板包括上板,竖板和下板,上板紧靠晶体座的上表面,竖板紧靠晶体座的侧表面,下板紧靠加热底板的上表面。本实用新型方便调节,使用范围广

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 209896432 U (45)授权公告日 2020.01.03 (21)申请号 20192

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