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- 2023-07-31 发布于四川
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本实用新型公开了一种单晶硅片清洗装置，包括输送架，输送架设有定位调节机构、清洁机构和两个喷洗机构，清洁机构和两个喷洗机构位于定位调节机构的上方，两个喷洗机构沿输送架的输送方向依次设置，清洁机构位于两个喷洗机构之间，定位调节机构包括螺杆、两个导杆和两个定位板，螺杆、两个导杆均平行横跨在输送架上，导杆与输送架固定连接，螺杆位于两个导杆之间且与输送架转动连接，螺杆前后两端螺纹连接有两个定位板，两个定位板与螺杆的螺纹连接方向相反，螺杆其中一端延伸至输送架外侧连接调节盘。本实用新型可满足多种规格尺寸单晶硅
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 209935371 U
(45)授权公告日
2020.01.14
(21)申请号 20192
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