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一种用于化学气相沉积硅基薄膜钝化层的托盘结构.pdfVIP

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  • 2023-07-31 发布于四川
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一种用于化学气相沉积硅基薄膜钝化层的托盘结构.pdf

    本实用新型公开了一种用于化学气相沉积硅基薄膜钝化层的托盘结构，包括托盘四周的托盘顶部和托盘口袋底部，所述托盘口袋底部四周倒角设置有斜边，所述斜边上设置有若干个定位点，所述斜边内侧相邻设置有四周支撑结构，所述四周支撑结构内侧与所述托盘口袋底部边缘相邻，所述托盘口袋底部开设有若干个导气孔。本实用新型既可限制硅片尽量位于托盘的中央部分，也防止托盘边缘遮挡导致在硅片边缘沉积薄膜不均匀，还可以有效防止硅片尤其是超薄硅片因受热或遇气流而越出托盘口袋底部；可防止硅片与托盘底面大面积接触造成硅片底面污染；可有效

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 209947816 U (45)授权公告日 2020.01.14 (21)申请号 20192

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