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新型化合物、包含其的前体组合物和利用其的薄膜的制造方法.pdfVIP

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  • 2023-08-02 发布于四川
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新型化合物、包含其的前体组合物和利用其的薄膜的制造方法.pdf

    本发明涉及能够通过气相蒸镀来进行薄膜蒸镀的气相蒸镀化合物，具体而言，涉及能够应用于原子层蒸镀法(AtomicLayerDeposition，ALD)或化学气相蒸镀法(ChemicalVaporDeposition，CVD)且反应性、挥发性和热稳定性优异的新型化合物、包含上述新型化合物的前体组合物、利用上述前体组合物的薄膜的制造方法以及由上述前体组合物制造的薄膜。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116529417 A (43)申请公布日 2023.08.01 (21)申请号 202180080627.0 (74)专利代理机构 北京银龙知识产权代理有限

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