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本实用新型公开了一种电解铜箔硅烷添加装置，包括涂硅槽、为涂硅槽供应硅烷溶液的供液槽、为供液槽补充硅烷溶液的补液槽，所述补液槽的供液口与供液槽进口之间连接有供液管道，所述供液口连接有控制启闭的自动控制阀门，所述涂硅槽设有回流排液口，所述回流排液口经排液管道与排放槽连接，所述回流排液口连接控制启闭的自动控制阀门；所述自动控制阀门为液位控制阀门，所述供液槽内设有液位器，由液位器控制液位控制阀门根据液位上下限值启闭。本实用新型利用简易的阀门与电器控制来达到不安装自动检测仪，达到降低设备上的成本，并且减少
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 209974924 U
(45)授权公告日
2020.01.21
(21)申请号 20192
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