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本申请涉及纳米压印技术领域，公开一种用于方形基片的旋涂设备。包括旋转单元，点胶单元，去胶边单元，排放单元。其中所述旋转单元包括组合吸盘，中部设置有方形的凹陷区，所述凹陷区开设有多条真空气槽，所述凹陷区外侧设置有补偿区；多个顶针，与升降电机相连接，可穿过所述真空气槽上的多个顶针针孔到达所述组合吸盘上方，对方形基片进行上下料。其中，所述补偿区与所述凹陷区之间的高度差小于或等于第一高度。本方案提供的用于方形基片的旋涂设备利用压差将方形基片固定，通过组合吸盘将方形基片补偿为圆形基片，避免了气流扰动影响胶
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116520642 A
(43)申请公布日 2023.08.01
(21)申请号 202310406583.7
(22)申请日 2023.04.17
(71)申请人 青岛天仁微纳科技有限责任公司
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