表面取样装置.pdfVIP

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本实用新型提供一种表面取样装置,其能够分别对晶圆的上表面、下表面及侧面进行取样及清洁,避免了交叉污染;且可以选择性控制药液流速,采样过程可以依情况选择动态还是静态,提高提取效率;同时本实用新型解决VPD采样范围只停留在晶圆上表面及侧面的问题,本实用新型表面采样装置对晶圆的背面也可进行采样;采样后,取样液体直接送至外部检测设备,简化传输过程,避免样品流失,提高测试精度;另外,由于不需要防止扫描液滴滴落,所以省略了HF对晶圆预处理步骤,直接采样,且药液选择具有多样性,具有经济意义。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 209979283 U (45)授权公告日 2020.01.21 (21)申请号 20192

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