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本实用新型涉及放射医疗设备技术领域，公开了一种多源聚焦放射治疗头及治疗设备。所述多源聚焦放射治疗头，包括源体和准直体，源体上分布有多个收容放射源的载源腔及对应的多个射线出口，准直体上对应所述多个射线出口分布有多个准直孔，多个放射源发出的多条射束经由所述多个准直孔汇聚至焦点处，还包括至少一个开关体，所述至少一个开关体位于所述准直体靠近或远离焦点的一侧，且所述至少一个开关体能够运动，以阻挡/射出所述多条射束中的部分射束。通过控制设置在准直体靠近或远离焦点一侧的开关体的运动，以阻挡/射出源体发出的多条
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 209984816 U
(45)授权公告日
2020.01.24
(21)申请号 20179
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