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公开了用于在衬底表面上形成碘化铜层的方法和系统。示例性方法包括使用循环沉积过程,该过程包括向反应室提供铜前体和向反应室提供碘反应物。示例性方法可以进一步包括向反应室提供还原剂和/或提供掺杂剂反应物。还描述了使用该方法形成的结构。该结构可用于形成器件,例如存储器件。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116536644 A
(43)申请公布日 2023.08.04
(21)申请号 202310118635.0 H01L 21/02 (2006.01)
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