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- 2023-08-05 发布于四川
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本实用新型公开了一种可提升调节精度的硅晶片抛光装置，包括：箱体；支撑装置，所述支撑装置固定于所述箱体内壁的两侧之间；调节装置，所述调节装置固定于所述箱体内壁的顶部；水箱，所述水箱固定于所述箱体一侧的底部；抽水机，所述抽水机固定于所述水箱的一侧；进水管，所述进水管连通于所述抽水机的进水口与水箱的一侧之间；本实用新型涉及硅晶片抛光技术领域。该可提升调节精度的硅晶片抛光装置可以对抛光盘与硅晶片之间的距离进行调节，更好更精确的在硅晶片抛光过程中进行调节，提升了调节的精度，快速方便的对硅晶片进行抛光，提高
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 209998925 U
(45)授权公告日
2020.01.31
(21)申请号 20192
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