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本发明公开了一种三氟乙酸改性硅表面TFA‑Si光催化剂及其制备方法和应用。该光催化剂以二氧化硅作为前驱体,通过低温镁热还原过程,经由HCl酸洗和三氟乙酸酸浸,在硅材料表面进行吸附有机氟三氟乙酸,得到TFA‑Si光催化剂。本发明引入的三氟乙酸具有强电负性,能够有效吸收光生电子,减少电子空穴的复合,从而提高光催化活性。且三氟乙酸循环吸附在硅表面,能够保护Si–OH不被氧化成SiO2,进而降低硅表面SiO2的生成速率,进一步提高了光催化剂的产氢稳定性。所得处理材料与单纯硅相比,光催化分解水产氢性能显著
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114950397 A
(43)申请公布日 2022.08.30
(21)申请号 202210480871.2 B01J 35/10 (2006.01)
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